期末報告-濕式洗滌塔設備之應用於白煙/異味改善

摘要
濕式洗滌塔處理技術係廢氣經過填充塔，利用氣體和液體的氣-液相接觸，並藉慣性作用、紊流、分子擴散作用、質量傳送以及化學反應等方式，達到氣體與HAPs分離的目的，氣體再經除霧器將氣體中之液滴去除，最後將淨化後之清淨空氣經煙囟排至大氣。塔內的化學反應係藉由動力設備傳輸化學物質於吸收液(洗滌液)中，使氣相中的HAPs成份因溶解而轉移至液相反應生成化合物，沉澱於循環水中後再排至廢水處理設施。HAPs異味問題均以酸洗製程排出之高濃度酸氣衍生為主，而白煙的形成來源有，1.一般之空氣污染防治設備(文式洗滌塔除外)對於次微米微粒無法有效去除，SiO2微粒藉由洗滌塔的飽和水氣環境凝結核造成霧氣。2.NH3存在於洗滌塔中所發生的異質核凝現象而產生白煙，其所造成的白煙更甚於SiO2微粒嚴重。如何藉由Scrubber設備之應用來解決白煙/異味的BACT探討。

參考文獻
1. 操作績效自我評估管理制度手冊（白曛綾教授，陳建志）
2. 高科技產業無機酸鹼廢氣組成與填充式濕式洗滌塔控制效率之研究（蔡春進、黃俊超）
3. 行政院環境保護署,粒狀污染物控制設備, 2008
4. 半導體廢氣洗滌塔操作與實務探討(林政鑒、蔡俊宏、陳立德)
5. 煙道白煙的成因及可行控制技術研究(蔡春進)

新竹科學工業園區半導體產業洗滌處理酸鹼廢氣問題探討

摘要
新竹科學工業園區內產業可分為六大產業，其產業類型包括：積體電路、電腦及週邊設備、通訊、光電、精密機械、生物技術及其他產業等，各大產業下又細分不同次產業，製程特性上的差異多變，所使用之化學物質種類繁多，造成園區之空氣、水和廢棄物污染呈現種類多之特性。就空氣污染物排放狀況而言，以園區主要科技產業—積體電路製造(含二極體製造)為例，因該製程之主要污染物為酸、鹼氣體及揮發性有機物（異丙醇、丙酮、PGMEA、Acetic acid和butyl ester）等，經統計較大排放量之空氣污染物種為揮發性有機物、鹽酸、氫氟酸及硫酸。目前園區半導體廠商皆以濕式洗滌塔處理酸、鹼氣體，其效率皆可符合「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」。由於製程中所使用之化學品種類複雜多變，雖然半導體產業廢氣特性屬低濃度高風量，但若廠商未能妥善規劃防制設備管線分流及確實進行設備操作維護保養，將會對系統的穩定性造成影響，且會影響周界空氣品質，其排放量甚至無法達成法規的要求。
本篇報告中將針對洗滌塔運轉所發生的問題進行探討，期望藉由源頭及管末分流的改善，妥善處理空氣污染物，避免園區因產業發展群聚效應所衍生之環境污染問題。

參考文獻：
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