Thursday, January 08, 2009

期末報告 - 半導體業對氟氯碳化物廢氣處理技術探討

地球暖化問題愈來愈嚴重,除了二氧化碳是主要原因之外,氟氯碳化物由於其化學性質相當穩定,生命期長達數十年至百年之久,因此會在大會中不斷累積,最後上升至平流層。在這裡受到紫外線照射而 分解產生氯原子與臭氧反應,使臭氧分解消失。
一個氯原子在失去活性以前,足以破壞一萬個臭氧分子,因此對臭氧層造成莫大的威脅,半導體業及面板業因製程需求需大量使用此類化學品,因而排放多數之氟氯碳化物,舊有技術大部分採用高溫裂解及水洗或吸附方式處理,但其去除效率不佳,進來因電漿解離技術成熟,使得其處理效率可達90%以上。
本文針對各種處理技術做一探討,比較其優劣點並做出未來遵循之方向。

參考文獻
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1 comment:

CJ Tsai said...

ok

Chuen-Jinn Tsai