期末報告－高科技產業處理設備廢氣濃度調查研究

國內相關半導體與光電廠等高科技產業興起，而此兩大產業製程中皆產生了大量的製程廢氣，例如製程中所使用的清洗溶劑、光阻劑以及去光阻劑等。所以隨著環保意識的抬頭，環保署針對此兩大產業分別制訂空氣污染管制及排放規範。所以對於處理製程所產生廢氣相關問題的挑戰越來越大，因此處理設備對於製程廢氣濃度削減率的調查與評估即成為一項極重要的工作。
各類製程廢氣的控制與處理層面，主要可分為廢氣濃度的高低、另外廢氣是否可以回收，以及水溶性高低等物化特性幾個部分，因此對於複雜製程氣體狀況與處理設備濃度削減效率問題的關聯性與釐清，基於產業與維修保養與控制成本考量不同，必須分別根據不同需求裝設合適的處理設備，如此才能有效的對症下藥，確實的解決廢氣排放可能造成的環保問題。
半導體與光電產業雖然區隔成兩種不同之業別，但是光電產業在前段列陣(Array)製程之製造技術則與半導體雷同，其差別則端視將技術應用於玻璃基板或晶圓上，但不論如何半導體及光電產業於此製程中皆產生了大量的有機廢氣，例如製程中所使用的清洗溶劑、光阻劑以及去光阻劑 等。針對處理揮發性有機廢氣(Volatile organic compounds, VOCs) 之污染防制設備，其中大致包含有流體化床、冷凝器、濕式洗滌塔以及沸石轉輪等等多種污染防制設備。由於製程排放之化學物質成分與種類複雜，而且相互之間可能產生反應而生成一些副產物，所以上述的狀況對處理設備可能會產生一些風險，進而造成處理設備甚至廠房的危害，因此必須深入瞭解其風險來源，最後依調查評估狀況進而降低或解決處理設備危害的風險。整體而言，處理設備風險的降低，依濃度或類別必須包括製程廢氣的分流，選擇合適的處理設備、或是處理設備的串聯，有效降低往後相關問題發生頻率或因搜尋解決方案所付出時間與人力。另外也涵概了設備自動檢查辦法與廠務的維修保養及定期檢查。除了上述的建議外，為了維護安全的防線，所以在操作的機制上必須注意人員操作與系統操作安全等事項。最後再以工安環保策略來減少或降低污染物對廠房與環境的衝擊。

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