Innovate design of AMC exhaust system for running FAB.-9476519劉享星

隨著半導體積體電路製造日益進步，元件密度越來越高，相對的半導體製程線徑亦日趨微小化，因此對於製程環境的要求也愈來愈嚴格，除了過去重視的微粒污染外對於空氣中化學分子污染AMC(Airborne Molecular Contamination)對製程之影響更是一個新的問題。再者，由於潔淨室內常有使用中的化學氣體或液體洩漏或翻灑事件，這種意外事故除了安全的考量外，同時也形成FAB的污染源，輕者人員疏散，造成工時的損失，重者造成產品受污染而報廢，但是大部分的既設潔淨室均沒有預先設置針對AMC的排氣系統，在實際操作時有些以排煙系統替代，有些以直接開放部分潔淨室的門，以得到較高的換氣速率替代，但或多或少都造成無塵室的影響如:FAB靜壓變化，溫溼度的不穩定，或外物入侵等。 因此，如何在既有硬體條件下，以相對較低的成本，加設一組AMC的排氣系統，且運轉時，能在不影響FAB既有空調條件下，盡速將FAB內的污染物質盡速排出廠外，是一個值得深究的議題。參考資料1. 潔淨科技 AMC專題(2005.12)2. Atmospheric chemistry and physics. (John H. Seinfeld. / Spyros N. Pandis)