摘要:
一般半導體業在空氣污染防治設備的運轉條件控制上,都是視實際產能情況,將風機調整至符合潔淨室內所需的風量及壓力條件為止。而當產能穩定時,汙染物排放情況未必會與初始設計條件相同。以揮發性有機廢氣處理設備為例,雖然說利用沸石吸附濃縮焚化系統處理,其削減率皆能達到一定地水準,但若沒有視實際情況將操作參數維持在良好條件時,則可能會造成整體處理效率低落而未達法規標準,進一步更有可能損害沸石的運轉壽命。
本文即以竹科某DRAM廠為例,除了實際探討當操作參數改變時對處理效率的影響之外,並提出結合廠務設備「紅外線熱顯像儀」作有效性地預防偵測,避免濃縮後的高濃度揮發性有機廢氣,從後燃燒設備洩漏而造成非削減率不足的異味事件。
參考文獻:
1.白曛綾、陳建志,「操作績效自我評估管理制度手冊_沸石濃縮轉輪焚化系統」,2003
2.張豐堂,「沸石濃縮轉輪焚化技術常見問題與解決問題」
3.C.David Cooper、F.C.Alley,「空氣污染防治」,1998年
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1 comment:
此與空氣污染控制設備, 技術等無關.
--Chuen-Jinn Tsai
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