期末報告-濕式洗滌塔針對無機性廢氣控制技術

摘要
半導體之酸鹼排氣通常為混合氣體排放，其含有之酸鹼氣體成分混雜，濕式洗滌塔為目前業界，針對無機性廢氣去除最常使用之設備，可將綜合之酸鹼廢氣轉化成廢液，因操作簡單與成本低，所以廣為業界所使用。
半導體製程，在進行熱氧化成長、物理氣相沉積、化學氣相沉積、磊晶沉積、離子植入、蝕刻、微影、清洗與擴散等製程，經常使用大量的HF、HCl、HNO3、H3PO4、H2SO4與NH3等，這些酸鹼性廢棄大多為洗滌塔處理後在排放到大氣中，由於半導體產業規模龐大，所以污染物之排放總量仍然相當可觀。
如何使洗滌塔穩定運轉並發揮應有之去除效率，並針對使系統操作異常率較高之狀況做探討，使達到環保規定之排放標準，維護週邊環境與人員安全，為本文討論之內容。
噴出洗滌液之反應，舉例說明如下：
酸氣(HF為例)：HF+NaOH＜＝＞NaF+H2O
鹼氣(NH3為例)：NH3+H2SO4＜＝＞NH4HSO4
1. 操作績效自我評估管理制度手冊（白曛綾教授，陳建志）
2. 中華民國環保法規資料中心
3. 能源與資源回收和空氣污染控制實驗室
4. 高科技產業無機酸鹼廢氣組成與填充式濕式洗滌塔控制效率之研究（蔡春進、黃俊超）
5. 以濕式洗滌塔去除酸鹼氣體之理論研究（蔡春進、陳茂銓 ）
6. 半導體業廢氣洗滌塔操作實務與探討(林政鑒、蔡俊宏、陳立德)