Tuesday, December 30, 2008

期末報告 : 半導廠全氟化物(PFC) 減量策略及Local scrubber處理效率探討

摘要
基於保衛地球及永續發展的理念,聯合國於1992年倡導「氣候變化綱要公約」,全球共計百餘國參與簽署,共同宣誓管制溫室氣體排放的決心,並於1997年通過「京都議定書」,協議已開發國家應於2008至2012年之前,減少相當於1990年溫室氣體排放量之5%以上。
導致全球溫室效應的主要氣體包括二氧化碳(CO2)、甲烷(CH4)、一氧化二氮(N2O)及全氟化物(Perfluorocompounds;PFCs)等,雖然前三種氣體的溫室效應貢獻比例即佔了總量的80%以上,但因全氟化物的結構穩定、不易自然代謝,且其溫室效應潛勢(Global Warming Potential; GWP)為二氧化碳的數千甚至數萬倍,加以因PFCs為工業化的產物,在大氣中的含量正以驚人的速度迅速累積,是以各國均將全氟化物列為重要的管制及削減對象。
依台灣半導體協會要求,國內半導廠全氟化物的排放量於2010年排放量需降至其減量基準年之90% ,故以氣體監測技術(FTIR及QMS),進行PFC機台製程尾氣監測,以探究替代性化學品之可行性,並評估Local Scrubber之處理效率。計畫目標為:1.減少全氟化物用量及排放量;2.提高PFC使用機台清洗效果;3.評估Local Scrubber處理設備之處理效率;4.瞭解全氟化物排放量;5.落實全氟化物減量計畫,建立綠色產品形象。

參考文獻︰
1.李灝銘、陳信良、張木彬、陳孝輝、曾錦清、魏大欽、林錕松、游生任、李壽南”全氟化物溫室效應氣體減量技術評析”(國科會計畫編號:95-EPA-Z-008-002)
2.顏紹儀、李壽南、林俊男、江鴻銘,『兩兆雙星產業之PFCs排放現況與減量策略』,化工技術,Vol. 14,No. 1,PP. 158-165 (2006).
3.Chang, M.B., and Chang, J.S., “Abatement of PFCs from Semiconductor Manufacturing Processes by Nonthermal Plasma Technologies: A Critical Review,”Industrial & Engineering Chemistry Research, Vol. 45, No. 12, 4101-4109 (2006).
4.曾錦清、劉世尹、郭年宏、陳孝輝、曾能芳、余玉正、魏新朕、林登連、連清輝、朱小蓉、鄭石治,『高效率全氟化物廢氣電漿處理裝置』,中華民國專利公告M255377。

1 comment:

CJ Tsai said...

agreed!!


Chuen-Jinn Tsai