新竹科學工業園區半導體產業洗滌處理酸鹼廢氣問題探討

摘要
新竹科學工業園區內產業可分為六大產業，其產業類型包括：積體電路、電腦及週邊設備、通訊、光電、精密機械、生物技術及其他產業等，各大產業下又細分不同次產業，製程特性上的差異多變，所使用之化學物質種類繁多，造成園區之空氣、水和廢棄物污染呈現種類多之特性。就空氣污染物排放狀況而言，以園區主要科技產業—積體電路製造(含二極體製造)為例，因該製程之主要污染物為酸、鹼氣體及揮發性有機物（異丙醇、丙酮、PGMEA、Acetic acid和butyl ester）等，經統計較大排放量之空氣污染物種為揮發性有機物、鹽酸、氫氟酸及硫酸。目前園區半導體廠商皆以濕式洗滌塔處理酸、鹼氣體，其效率皆可符合「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」。由於製程中所使用之化學品種類複雜多變，雖然半導體產業廢氣特性屬低濃度高風量，但若廠商未能妥善規劃防制設備管線分流及確實進行設備操作維護保養，將會對系統的穩定性造成影響，且會影響周界空氣品質，其排放量甚至無法達成法規的要求。
本篇報告中將針對洗滌塔運轉所發生的問題進行探討，期望藉由源頭及管末分流的改善，妥善處理空氣污染物，避免園區因產業發展群聚效應所衍生之環境污染問題。

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